EMS150 T离子溅射镀膜...
参数指标我要纠错


EMS150 T离子溅射镀膜仪仪器参数: 

仪器尺寸

585mm宽*470mm*410mm高(总高650mm)

重量

33.4KG

工作腔室

150mm(内径)*127mm(高)硼硅酸盐玻璃腔室,并带整体安全防护罩

触摸屏用户界面

带有触摸按钮的全图像界面,包含多达十个镀膜程序,可提醒何时需要维护

工作腔室

150mm(内径)*127mm(高)硼硅酸盐玻璃腔室,并带整体安全防护罩

样品台

转速为8-20rpm的旋转台

真空系统

涡轮子分子泵:带有内部空气却的涡轮分子泵,抽速为70L/s

旋转机械泵:抽速为50L/m的两级旋转机械泵,带有油污过滤器

真空测量

皮拉尼真空计作为标配

极限真空度

10-5mbar两级

电源需求

90-250V~50/60Hz 1400VA( 包括旋转机械泵电压240V)

气体

溅射工作气体氩气,99.999%(TS和TES版本);氮气,放气破真空气体(可选)

金属蒸发和光阑清洁头

用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。可配备一个标准钼舟用于清洁SEM或TEM光阑

碳蒸发

稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发,确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳

电流脉冲

1-90安培

溅射

0-150mA。可预设膜厚(需FTM选项)或使用内置定时器

溅射工作真空范围

5*10-3到5*10-1mbar

溅射靶材和碳耗材供应

EMS150TS和EMS150TES标配铬靶,但可选用的其它靶材范围很宽,包括那些广泛用于SEM制样的靶材,如:Au金靶,Au/pd金钯,Pt铂靶,和Iridium铱靶。对非SEM应用,可选用的靶材包括:AI铝,Ta钽,ITO氧化铟锡,Fe铁,W钨,Ti钛,等等:碳制品包括高纯度碳丝。


相关离子溅射仪