【技术特点】-- NLD-3000 ALD原子层沉积系统

NLD-3000原子层沉积系统特点：NLD-3000是一款独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统，带Labview软件，具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的安全互锁设计，并提供了强大的灵活性，可以用于沉积多种薄膜（如：AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等）。应用领域包含半导体、光伏、MEMS等。NLD-3000系统提供12”的铝质反应腔体，带有加热腔壁和气动升降顶盖，非常方便腔体的访问和清洁。该系统拥有一个载气舱包含多达7个50ml的加热汽缸，用于前驱体以及反应物，同时带有N2或者Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀。

【技术特点对用户带来的好处】-- NLD-3000 ALD原子层沉积系统

【典型应用举例】-- NLD-3000 ALD原子层沉积系统