【技术特点】-- NDR-4000 (M) DRIE深反应离子刻蚀

• 基于PC控制的紧凑型立柜式百级DRIE深硅刻蚀系统，拥有高纵横比的刻蚀能力；

• 配套Lab View软件，菜单驱动，自动记录数据；

• 触摸屏监控；

• 全自动系统，带安全联锁；

• 四级权限，带密码保护；

• 手动上下载片；

• He气背面冷却，-60摄氏度的低温样品夹具；

• 高达-1000V的外部偏压；

• 涡轮分子泵 + 涡旋干泵；

• 可以支持DRIE和RIE两种刻蚀模式；

• 实时显示真空、功率、反射功率图表，以及流量实时显示；

【技术特点对用户带来的好处】-- NDR-4000 (M) DRIE深反应离子刻蚀

【典型应用举例】-- NDR-4000 (M) DRIE深反应离子刻蚀