三靶高真空磁控镀膜溅射系统参数指标

技术参数

系统由真空腔室、旋转样品架、磁控溅射靶、铠装加热器、抽气系统、真空测量、工作气路、电控系统等各部分组成。

极限真空优于：5.0x10^-5Pa（经烘烤除气后）

真空漏率小于2.0x10^-8Pa.l/S

系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到6.0x10^-4Pa；

停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa

1、 真空室腔体尺寸Ф300x350mm，手动上开盖辅助液压结构，前有一个观察窗，样品台可旋转内部连接铠装加热器、真空规、放气阀等各种规格的法兰接口，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面采用电解抛光处理。采用金属或氟橡胶圈密封。配备一体机柜标准电箱。

2、磁控溅射靶

靶材尺寸：Φ50mm（其中一个可以溅射磁性材料）；

永磁靶一支、强磁靶一支：射频溅射与直流溅射兼容，靶内有水冷；配手动挡板。

2个靶可共同向下面的样品中心溅射，靶与样品距离90～110mm可调。

3、铠装加热样品:

加热区域为Φ100mmX100mm(H),基片加热最高温度 室温-600°C±1°C，由热电偶闭环反馈控制。

配有磁力转轴，电机驱动每分钟低于30转。