技术参数

1、主溅射室尺寸：?450×355mm筒形真空室

2、主溅射室真空度：5×10-5Pa

3、永磁靶3套，靶材尺寸φ2″，各靶射频与直流溅射兼容（其中1个靶可溅射铁磁材料），靶与样品距离90-110mm可调

4、三靶共溅，三个靶可共同折向样品中心，距离40-80mm可调

5、基片加热与水冷独立工作，加热炉可与水冷样品台可互换，加热工位最高温度 600℃±1℃

6、样品尺寸：φ1″

7、样品台可连续回转，转速5-15转/分

8、基片可加-200V负偏压

9、公转6工位样品台，可一次性安装6片φ1″基片，拆下水冷加热样品台可换上6工位样品台，其中5个工位为自然冷却工位，1个加热工位，加热工位温度 600℃±1℃