1、溅射头直径:?46.3mm 2、所用靶材:直径1“±0.02“(25.4mm),最大厚度1/8“(3mm) 3、磁环:NdFeB稀土永磁体 4、柄杆直径:外径3/4“ 5、电路接头:标准HN型接头,可与DC和RF电源相匹配 6、所需功率:DC最大250W,RF最大100W 7、阴极溅射电流:最大3A 8、阴极溅射电压:200V-1000V 9、工作压力范围:1mtorr-1torr 10、溅射厚度均匀性:采用磁控溅射在氧化非晶硅片上沉积一个20nm的薄膜,直流功率150W,真空环境 10mtorr,1“铜靶,与基片距离75mm |