【技术特点】-- 磁控溅射卷绕镀膜机

产品简介：磁控溅射卷绕镀膜机是磁控溅射多用途卷绕镀膜设备，适用于在 PET 和无纺布上镀制金属膜（铜，铝等）功能性薄膜，设备采用先进的磁控溅射镀膜技术，配备直流、射频磁控溅射系统，适合镀制软磁合金膜、金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等。

技术参数	卷膜条件
真空条件
极限真空（空载、洁净）：8×10-4Pa 恢复真空时间（空载、清洁）：105Pa ～ 5×10-3Pa≤60 min 系统真空漏率：1.0×10-10 Pa.m3/s 磁控溅射阴极数量：3 个 膜均匀性偏差：≤±10%

【技术特点对用户带来的好处】-- 磁控溅射卷绕镀膜机

【典型应用举例】-- 磁控溅射卷绕镀膜机