返回 AT-400 原子层沉积 返回 AT-400 原子层沉积 
产品型号： AT-400
品牌：ANRIC
产品产地：美国
产品类型：进口
原制造商：ANRIC
状态： 在售
厂商指导价格：
未提供
英文名称： AT-400
上市时间：
2013-08-12
优点： 原子层沉积（Atomic layer deposition, ALD）是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器，化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法，是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此，它是一种真正的“纳米”技术，以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性，因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。
参考成交价格：
30~50万元[人民币] 查中标价
1521
