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EM6900 | EM6900Z | ||
分辨率 | 3.0nm (30KV) | ||
放大倍数 | 6x ~ 300,000x | ||
电子枪类型 | 翻开式发叉结构钨丝阴极 | ||
加速电压 | 0 ~ 30KV | ||
透镜系统 | 三级电磁透镜（锥形物镜） | ||
物镜光阑 | 三个光阑可在真空外选择调节 | ||
样品台 | 手动 | X/Y自动台 | |
行程 | X | 0 ~ 80mm | |
Y | 0 ~ 60mm | ||
Z | 0 ~ 50mm | ||
R | 360° | ||
T | -5° ~ 90° | ||
探测器 | SE探测器，BSE探测器（可选），X-ray能谱仪（可选），EBSD（可选） | ||
真空系统 | 分子泵 | ||
技术指标：
| 分辨率 | 3nm@30kV（SE） 6nm@30kV（BSE） | 放大倍率 | 8～300000 倍 |
| 样品台 | 四轴自动样品台 | 加速电压 | 0～30kV连续可调 |
| 探测器 | 高真空二次电子探测器、半导体四分割背散射电子探测器、CCD | 灯丝 | 六硼化镧（选配） |
电子光学镜筒部分： 800×800×1850(mm)
电器柜控制部分： 1340×850×740(mm)
产品特性：
1. 分辨率高、成像质量好
2. 翻开式预对中钨丝阴极、选配六硼化镧灯丝
3. 中英文操作界面，具有一键成像功能
4. 低维护、维修成本
选配件：EBL、高低温台、纳米操作台、拉伸台
选配探测器：EBSD、EDS、CL