光刻机技术特点

【技术特点】-- 光刻机

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；ECOPIA为全球领先的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

产地：韩国ECOPIA公司，唯一能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比

型号：M-150

主要特点:

- 光源强度可控；

- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；

- 系统控制：手动、半自动和全自动控制；

- 曝光模式：真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式；

- 真空吸盘范围可调；

- zl技术：可双面对准，可双面光刻，具有IR和CCD模式

- 双CCD显微镜系统，最大放大1000倍，显示屏直接调节，比传统目镜对准更方便快捷，易于操作。

- 特殊的基底卡盘可定做；

- 具有楔形补偿功能；

【技术特点对用户带来的好处】-- 光刻机

【典型应用举例】-- 光刻机