离子束刻蚀/沉积系统技术特点

【技术特点】-- 离子束刻蚀/沉积系统

EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术（ECR）的小型离子束蚀刻系统，特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄，清洗、沉积等。

EIS-200原理：

利用ECR技术产生高能Ar+离子束，Ar+离子束通过电场加速到达样品表面，对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。

EIS-200具有以下优点：

Ÿ 方向性好，各向异性，陡直度高，侧向刻蚀少

Ÿ 分辨率高

Ÿ 不受刻蚀材料限制，可对石英等材料进行蚀刻

Ÿ 可控制蚀刻Taper角

Ÿ 可以设定多样的实验条件

Ÿ NPD(纳米图案成膜单元)选项（如下图）

主要功能

纳米级图案刻蚀

高深宽比蚀刻

离子束沉积

表面清洁

离子减薄

应用

纳米级图案刻蚀、高深宽比蚀刻、表面清洁、离子减薄等

Ÿ SiO2 on Si substrate

Ÿ Diamond Substrate（金刚石）

Ÿ Quartz (Mask)

Ÿ

Oriented PET film

【技术特点对用户带来的好处】-- 离子束刻蚀/沉积系统

【典型应用举例】-- 离子束刻蚀/沉积系统