技术指标:
分辨率 | 1.5nm@15KV(SE); 3nm@30KV(BSE) | 放大倍率 | 8~800000 倍 |
电子枪 | 肖特基场发射电子枪 | 加速电压 | 0~30kV |
样品台 | 手动样品台(标配)、 五轴全自动预对中样品台(选配) | 探测器 | 高真空二次电子探测器(具备防碰撞功能) |
透镜系统 | 多级高性能锥形透镜系统 |
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电子光学镜筒部分: 800×800×1480(mm)
电器柜控制部分: 1340×850×740(mm)
选配探测器:BSE、EBSD、EDS、CL
选配件:预抽室、EBL、高低温台、纳米操作台、拉伸台、手控盒、轨迹球