Gigaphoton深紫外線準分子激光器技术特点

【技术特点】-- Gigaphoton深紫外線準分子激光器

仪器简介：

应用：
◆ASML、Nikon、Canon光刻机等。

主要特点：

◆波长控制技术：通过使用Piezo控制技术使得波长控制响应时间大为缩短；
◆腔体寿命延长：通过改进腔体电极的材料，使得腔体寿命进一步延长；
◆KrF：技术成熟，稳定性高（Uptime 达99.9%），耗材寿命长，现已成为各大半导体厂商标准配置；
◆ArF：设计先进，稳定性高，CoC（运行成本）与CoD（停机维护成本）都达到了业界最好水平；
◆ArF Immersion：ArF 浸润式是目前可量产的光刻技术极限。Gigaphoton 是一个被半导体厂商和光刻机厂商认可的光源供应商，也是最早进入量产阶段的厂商。其设计先进，具有波长和带宽稳定控制技术、耗材复用及长寿命技术、化学气体长周期使用等一系列提高性能与稳定性并降低运行成本的核心技术。ArF Immersion机台率先使用了带宽控制(BCM)技术，能够稳定的控制E95，减少CD Error的出现

【技术特点对用户带来的好处】-- Gigaphoton深紫外線準分子激光器

【典型应用举例】-- Gigaphoton深紫外線準分子激光器