SSP-1000桌面型磁控溅射系统参数指标

        在基板中φ100mm的区域内，膜厚度的偏差在±5％之内。

        使用标准RF电源提供的脉冲模式，也可以溅射陶瓷类靶材。

        在沉积期间，基底支架可旋转或静止。