瞬渺镀膜机 SiNx－PECVD技术特点

【技术特点】-- 瞬渺镀膜机 SiNx－PECVD

用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备 MVS

Silicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar Cells

Throughput: >475 wafers/hr

SiNx uniformity: < ?5%

产率：>475硅片/小时。

氮化硅膜不均匀性：< 5%。

【技术特点对用户带来的好处】-- 瞬渺镀膜机 SiNx－PECVD

【典型应用举例】-- 瞬渺镀膜机 SiNx－PECVD