反射式膜厚测量仪

反射式膜厚测量仪技术特点

参考成交价格: 1~200000元[人民币]
技术特点

【技术特点】-- 反射式膜厚测量仪

产品特点:

? 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。

? 高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱,分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率,k消光系数)。

? 宽阔的波长测量范围。(190nm-1100nm)

? 薄膜到厚膜的膜厚测量范围。(1nm~250μm)

? 对应显微镜下的微距测量口径。


产品规格:


标准型

厚膜专用型


膜存测量范围

1nm~40μm

0.8μm~250μm


波长测量范围


190~1100nm

750~850nm


感光元件

PDA 512ch(电子制冷)

CCD 512ch(电子制冷)

PDA 512ch(电子制冷)

光源规格

D2(紫外线)、12(可见光)、D2+12(紫外-可见光)

12(可见光)


电源规格

AC 100V±10V 750VA(自动样品台规格)



尺寸

4810(H)×770(D)×714(W)mm(自动样品台规格之主体部分)



重量

约96kg(自动样品台规格之主体部分)




应用范围:

FPD

-LCD、TFT、OLED(有机EL)

半导体、复合半导体

-矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料

资料储存

-DVD、磁头薄膜、磁性材料

光学材料

-滤光片、抗反射膜

平面显示器

-液晶显示器、膜膜电晶体、OLED

薄膜

-AR膜

其他

-建筑用材料


测量范围:

玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析



【技术特点对用户带来的好处】-- 反射式膜厚测量仪


【典型应用举例】-- 反射式膜厚测量仪


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