小型离子溅射仪喷金仪...
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“ETD-900,The utility model has comfortable hand feeling, strong practicability, easy implement, novel construction, simple structure.

The micro leakage valve on the front panel can connect various gases; The sputtering current is regulated, the film speed is fast and the quality is good.;

 Functional control and timing are all scheduled by CPU, with a wide range of applications.

 It is easy to control the vacuum chamber pressure, ionization current and choose the required ionization gas when working in conjunction with the internal automatic control circuit, so as to achieve the best coating effect.

  High qualitative jump vacuum pump


 

溅射气体
溅射靶材溅射电流溅射速率样品仓尺寸样品台尺寸工作电压
根据实验目的可添加氩气,氮气等多种气体。标配靶材为金靶,厚度为50mm*0.1mm。也可根据实际情况配备银靶、铂靶等。

zei大电流

50mA,zei大工作电流30mA

优于4nm/min

直径160mm,高120mm

样品台尺寸可安装直径50mm和直径70mm的样品台,也可根据自身要求定制样品台

220V

(可做110V),

50HZ

                                                                                      

需要镀膜的样品


   

电子束敏感的样品非导电的样品新材料
主要包括生物样品,塑料样品等。S EM中的电子束具有较高能量,在与样品的相互作用过程中,它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料,那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下,用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用,防止此类损伤;由于样品不导电,其表面带有“电子陷阱”,这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应,可在样品表面镀一层金属导电层,镀层作为一个导电通道,将充电电子从材料表面转移走,消除荷电效应。在扫描电镜成像时,溅射材料增加信噪比,从而获得更好的成像质量。非导电材料实验电极制作观察导


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