【技术特点】-- 离子溅射仪ETD-2000

特点：

1、简单、经济、可靠。

2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。

4、真空保护可避免真空过低造成设备短路。

5、同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到更细颗粒的涂层。

6、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层。

7、数字计时器定时自由方便。

8、计时器可随时停止，观察样品涂层，并可继续工作。

9、可调节样品台，适用于多种样品。

【技术特点对用户带来的好处】-- 离子溅射仪ETD-2000

【典型应用举例】-- 离子溅射仪ETD-2000