ETD-650MS磁控溅射仪

ETD-650MS磁控溅射仪

参考成交价格: 10~30万元[人民币]
技术特点

【技术特点】-- ETD-650MS磁控溅射仪

ETD-650M型磁控溅射仪

是我公司研制开发的一款经济实用的袖珍型高真空磁控溅射设备,更适合各科研及教育机构实验室的中试验需求。系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶(强/弱磁靶)、光纤旋转台(定制)、直流电源、工作气路、抽气系统、循环水系统、膜厚监测系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

真空系统:涡轮分子泵,抽速为300L/s 前级机械泵:抽速为4L/s,带防返油电磁阀及油污过滤器 真空测量:采用复合真空计监测真空



【技术特点对用户带来的好处】-- ETD-650MS磁控溅射仪


【典型应用举例】-- ETD-650MS磁控溅射仪


相关离子溅射仪