标准反射光栅技术特点

【技术特点】-- 标准反射光栅

反射光栅在空间分光方面有多种光学应用用途。 超低散射反射光栅采用投影光刻技术和反应性单晶硅基底离子蚀刻制造技术。镀膜采用业界最新技术及生产装备配合高精度镀膜仿真软件完成，并可根据您的应用需求选用不同镀膜涂层，如各种金属和电介质材料。以最大限度地提高第一级衍射，优化槽深度和占空比以实现绝对衍射效率峰值高达95％。

每个光栅均设计为母光栅，而不是复制光栅，达到低散射光和持久性能目标。批量制造工艺使我们能够提供价格低于常见的复制光栅。应用高温或高功率理想的硅基底基板材料，这种材料接近于铜的热导率、热膨胀系数低于高硼硅。基板厚度达到亚毫米尺寸，面向超轻和使设备小型化设计。

更重要的是，相比传统的商业复制的全息光栅和机械刻划光栅，LightSmyth反射光栅会减少散射光达100X。点击http://www.lightsmyth.com/downloads/product_info/LS_LinGrooveGrat_Spec-2.pdf查看比较。

优点

• 每块光栅都是高性能的母板，不使用聚合物

• 超低成本（低于复制光栅）

• 免费复制/缺陷检测核定；超低散射

• 高强度单晶硅基板

• 近似于铜的热导率

• 最佳高硼硅玻璃，最大限度地减少热膨胀

应用

• 远程光传感器和光谱

• 高功率激光器

• 光谱光束合成

• 天文学和太空探索

标准反射光栅列表

典型光栅厚度约为0.7毫米。基底高度和宽度公差是±0.3毫米。光栅基片：单晶硅。光栅涂层：铝。提供特定镀膜应用定制和优化。

【技术特点对用户带来的好处】-- 标准反射光栅

【典型应用举例】-- 标准反射光栅