国际先进的采样方法、稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量极薄纳米薄膜,膜厚精度可达到0.5nm。
国际水准的仪器设计,在保证精度和准确度的同时,可在3秒内快速完成一次测量,可对纳米膜层生长过程进行测量。
用户只需一个按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程,数据一键导出。丰富的模型库、材料库方便用户进行高级测量设置。