Microwriter ML3 | 基本型 | 增强型 | 旗舰型 |
最大样品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm |
最大直写面积 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm |
曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 适用于SU-8 (365+405nm双光源可选) |
直写分辨率 | 1μm | 1μm and 5 μm | 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm |
直写速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm 120mm2/min @ 5μm | 25mm2/min @ 0.6μm 50mm2/min @ 1μm 100mm2/min @ 2μm 180mm2/min @ 5μm |
对准显微镜镜头 | x10 | x3 and x10 自动切换 | x3, x5, x10, x20 自动切换 |
多层套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm |
最小栅格精度 | 200nm | 200nm | 100nm |
样品台最小步长 | 100nm | 100nm | 50nm |
光学轮廓Z分辨率 | 无(可升级) | 300nm | 100nm |
样品表面自动对焦 | 是 | 是 | 是 |
灰度直写(255级) | 是 | 是 | 是 |
自动晶片检查工具 | 无(可升级) | 有 | 有 |
温控样品腔室 | 无 (可升级) | 无 (可升级) | 有 |
虚拟模板校准工具 | 无(可升级) | 无(可升级) | 有 |
气动减震光学平台 | 无(可升级) | 无(可升级) | 有 |