小型台式无掩膜光刻机
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Microwriter ML3基本型增强型旗舰型
 最大样品尺寸155×155×7mm155×155×7mm230×230×15mm
 最大直写面积149mm x 149mm149mm x 149mm195mm x 195mm
 曝光光源405 nm LED 1.5W405 nm LED 1.5W385 nm LED 适用于SU-8 
(365+405nm双光源可选)
 直写分辨率1μm1μm and 5 μm0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
 直写速度20mm2/min @ 1μm20mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 5μm
25mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
100mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm
 对准显微镜镜头x10x3 and x10 自动切换x3, x5, x10, x20 自动切换
 多层套刻精度±1μm±1μm±0.5μm
 最小栅格精度200nm200nm100nm
 样品台最小步长100nm100nm50nm
 光学轮廓Z分辨率无(可升级)300nm100nm
 样品表面自动对焦
 灰度直写(255级)
 自动晶片检查工具无(可升级)
 温控样品腔室无 (可升级)无 (可升级)
 虚拟模板校准工具无(可升级)无(可升级)
 气动减震光学平台无(可升级)无(可升级)


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