荧光分布成像系统采用全新设计,可以测定并观察样品的光谱数据。利用AI光谱图像处理算法*1,不但可以分别显示样品的荧光图像和反射图像,还可以获得不同区域的光谱图像*1(荧光光谱、反射光谱)。
*1计算系统是国立信息学研究所的IMARI SATO教授和郑银强副教授共同研究的成果。
*“EEM”是日立高新技术科学公司在中国和日本的注册商标
新技术可同时获得荧光 · 反射图像和光谱
测定样品的光谱数据(反射光谱、荧光光谱)
在不同光源条件(白光和单色光)下拍摄样品
(区域:Φ20 mm、波长范围:380~700 nm)
采用AI光谱图像处理算法*1,能够分别显示样品荧光图像和反射图像
根据图像可获得不同区域的光谱信息*1(荧光光谱、反射光谱)
*1
计算系统是国立信息学研究所的IMARI SATO教授和郑银强副教授共同研究的成果
EEM View Analysis 界面(样品:LED电路板)
均匀的光源系统
同时获取样品的荧光 · 反射图像和光谱!
积分球漫反射使光源均匀化
利用积分球收集的光均匀照射样品
采用荧光检测器和CMOS相机双检测模式
新型荧光分布成像系统可安装到F-7100荧光分光光度计的样品仓内。入射光经过积分球的漫反射后均匀照射到样品,利用F-7100标配的荧光检测器可以获得样品荧光光谱,结合积分球下方的CMOS相机可获得样品图像,并利用独特的AI光谱图像处理算法,可以同时得到反射和荧光图像。
样品安装简单,适用于各种样品测试!
样品只需摆放到积分球上,安装十分简单!
板状样品:通过石英窗安装样品。
粉末样品:将粉末填充至样品平整夹具中,置于粉末样品池支架,或使用选配件固体样品支架中的粉末样品池安装样品。
校正时,需放置好荧光标准样品。
请使用选配的标准白板(100 %)和空白样品(0 %)进行校正。此校正工具可被应用于荧光强度、反射率校正, 以及图像不同区域的亮度分布校正。
应用数据
为了提高可视性,我们测量了具有精细结构的荧光反射片。
同时获得光谱数据和样品图像
对样品照射360 nm~700 nm范围内的单色光以及白光。此时,可获得不同光源条件下的图像,同时通过荧光检测器可获得荧光光谱。测定完成后,可以查看样品的三维荧光光谱(激发波长、发射波长、荧光强度)。在专用分析软件中,可对图像进行放大,从而显示不同区域的荧光 · 反射光谱。因此能够确认光学性能分布不均匀的样品的反射和荧光光谱。
计算、显示不同区域的光谱(荧光 · 反射)
显示分离图像(荧光 · 反射)
对拍摄到的图像进行反射光成分图像与荧光成分图像分离
利用AI光谱图像处理算法,将拍摄的图像分离为反射光成分和荧光成分图像。结果,反射光成分图像显示为橙色,荧光成分图像显示为绿色。二者分别与反射光谱与荧光光谱的单色光一致。由此可知,此样品是橙色反射光和绿色荧光的混合,所以在白光下呈黄色。此外,通过反射图像和荧光图像可看出样品不同区域的光学特性(图像图案)差异。放大图像后可以看到,反射板的微细结构存在规律的间隔,其间隔宽度是200 μm。
上市时间:2019年10月
创新点主要有两个方面:硬件方面:全球首创将将荧光分光度计与CMOS相机结合在一起,能够同时观察样品光谱和图像的技术。软件方面:运用了智能光谱算法,可以获取样品任意区域的光谱信息。常规的荧光分光光度计测得的是样品表面信息平均化的信号,得到的是一条荧光光谱,这个新的系统能够对样品表面进行分区,从而获得不同区域的光谱信号,使得光谱信息细致化了。
一、荧光分布成像系统(EEM View)简介
作为荧光分光光度计的配件系统,这是全球首创将相机与荧光分光光度计的完美结合,融合了智能算法的先进技术。能够同时获取样品图像和光谱信息。
新型荧光分布成像系统可安装到日立F-7000/71000荧光分光光度计的样品仓内。入射光经过积分球漫反射后均匀照射到样品,利用荧光光度计标配的荧光检测器可以获得样品荧光光谱,积分球下方的CMOS相机可获得样品图像,并利用独特的AI光谱图像处理算法,可以同时得到反射和荧光成分图像。
二、 荧光分布成像系统特点:
在不同光源条件下(白光和单色光)拍摄样品图像,(区域:Φ20mm、空间分辨率:0.1 mm左右、波长范围:360-700nm),同时利用先进的光谱算法,分别显示荧光图像和反射图像, 根据图像可获得不同区域的光谱信息(荧光光谱、反射光谱)
荧光分布成像系统软件分析(EEM View Analysis)界面(样品:LED电路板)
样品只需摆放到积分球上,安装十分简单!
丰富的样品支架
支持精确测量的校正工具
荧光分布成像系统是一种全新的技术,将它配置到荧光分光光度计中,改变了常规荧光光度计只能获得样品表面区域平均化信息的现状,可以查看样品图像任意区域的光谱信息,十分适合涂料、材料、油墨、LED、化工等领域。