项目 | 技术指标 |
光谱范围 | ESS03VI:370-1700nmESS03UI:245-1700nm |
光谱分辨率(nm) | 可设置 |
入射角度 | 40°-90°手动调节,步距5,重复性0.02 |
准确度 | δ(Psi): 0.02 ° ,δ(Delta): 0.04° (透射模式测空气时) |
膜厚测量重复性(1) | 0.05nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层) |
折射率n测量重复性(1) | 0.001 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层) |
单次测量时间 | 典型0.6s / Wavelength / Point(取决于测量模式) |
光学结构 | PSCA(Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度) |
可测量样品zei大尺寸 | 直径200 mm |
样品方位调整 | 高度调节范围:10mm |
二维俯仰调节:±4° | |
样品对准 | 光学自准直显微和望远对准系统 |
软件 | •多语言界面切换 |
•预设项目供快捷操作使用 | |
•安全的权限管理模式(管理员、操作员) | |
•方便的材料数据库以及多种色散模型库 | |
•丰富的模型数据库 | |
选配件 | 自动扫描样品台聚焦透镜 |
注:(1)测量重复性:是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。