仪器型号

EX3

测量方式

自动测量

样品放置方式

水平放置

光源

半导体激光器，波长635nm

膜厚测量重复性^*

0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO₂膜层)

膜厚范围

透明薄膜：1-4000nm

吸收薄膜则与材料性质相关

折射率范围

1.3 – 10

探测光束直径

Φ2-3mm

入射角度

30°-90°，精度0.05°

偏振器方位角读数范围

0-360°

偏振器步进角

0.014°

样品方位调整

Z轴高度调节：16mm

二维俯仰调节：±4°

允许样品尺寸

圆形样品直径Φ120mm，矩形样品可达120mm x 160mm

配套软件

* 用户权限设置

* 多种测量模式选择

* 多个测量项目选择

* 方便的数据分析、计算、输入输出

外形尺寸

（入射角度70°时）450*375*260mm

仪器重量（净重）

15Kg