普发真空APA污染管理解决系统技术特点

【技术特点】-- 普发真空APA污染管理解决系统

高效粒子监测

亚微米粒子会造成可能导致相当大产量损失的缺陷。即使是测量值为 0.1 μm 的最小粒子，也可能会损坏半导体芯片的结构。创新的 ADPC 302 可测量晶片传送载体内的粒子数量（前开式晶圆传送盒 FOUP，前开式装运箱 FOSB）。全自动的zl工艺从载体表面(包括门)对粒子进行定位和计数。

得益于领先的晶圆，该系统可用于成批生产和研发分析。主要应用是载体特征化、清洗策略优化和清洗质量检查。

与传统湿法相比较（液体颗粒计数器），ADPC 的干式工艺（干式粒子计数器）显示出了明显的优势。干式工艺的主要优势在于粒子测量是完全自动的。它是在生产过程中集成的，因此不再需要生产周期之外的时间。有了全自动测量，该过程无需额外的操作员。测试时间只需 ７分钟，意味着 ADPC 302 的速度是传统系统的 ４ 倍。可在 １ 个小时内测试 8 个运输箱。

【技术特点对用户带来的好处】-- 普发真空APA污染管理解决系统

【典型应用举例】-- 普发真空APA污染管理解决系统