等离子体增强化学气相沉积系统CVD参数指标

多功能电感耦合等离子体增强化学气相沉积系统（CVD）是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术，主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离，促进化学反应在较低的温度下进行，从而在基片上沉积出所期望的薄膜。

多功能电感耦合等离子体增强化学气相沉积系统（CVD）是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术，主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离，促进化学反应在较低的温度下进行，从而在基片上沉积出所期望的薄膜。

目前项目团队自主研发的CVD设备可在多种衬底上（如金属、氧化物、半导体表面）直接生长以石墨烯为代表的各类新型二维材料，用于新材料、新器件的研发。工艺简单廉价，且具有传统半导体生长工艺的兼容性。