新型真空镀膜工艺与装备实验室
新型真空镀膜工艺与装备实验室

实验室主要成果展示:
 
1、真空放电装备开发:
A、高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)研究

HiPIMS-PIID技术的提出

HiPIMS-PIID技术制备CrN涂层界面
  新型金属等离子体源的研制
 
自主设计复合真空处理平台设计与制造
 
2、特种真空镀膜技术与应用:
 

抗菌涂层
 
3、锂电池材料界面处理与全固态电池:
去极化“全活性电极”设计与制备
去极化电极充放电性能
 
电化学原位界面调控法——提前放电
提前放电与否电化学性能(a)未放电样品;(b)提前放电样品;(c)循环性能对比;(d)倍率性能对比
 
4、基于纳米结构的薄膜太阳能电池研究:
                                       
插入式背电极复合结构