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半导体的3D时代(六)

2020.9.28
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王辉

致力于为分析测试行业奉献终身

图15展示了DRAM单位比特成本趋势。

图15. DRAM单位比特成本趋势。

图15是基于战略成本和价格模型中的晶圆成本估算值与图14中的单位比特密度相结合得出的。所有晶圆厂都是新建工厂,每月产能为75,000片晶圆,因为这是2020年DRAM晶圆厂的平均产能。这里假设的公司与国家对应关系是,美光-日本,三星/SK海力士-韩国。

这些计算不包括封装测试成本,也没有考虑划片槽宽度或芯片良率。

在此图中,较高的掩模数和较慢的比特密度增长的组合导致从每节点成本降低0.70倍减缓至每节点成本降低0.87倍。

结论

NAND已经成功地从2D过渡到3D,并且可以一路微缩至2025年左右。在2025年之后,可能会有非常高的层数,但是除非在工艺或设备效率方面取得突破,否则单位比特成本的降低可能会结束。

今天的前沿逻辑利用3D FinFET结构,但直到2025年左右引入CFET之后,它才是真正的堆叠器件的3D技术。通过从FinFET到HNS到CFET的过渡,逻辑有可能继续微缩至2020年代末,之后成本降低可能会放缓。

DRAM是3个市场领域中最受限制的领域,其微缩和成本降低已经显着放缓,并且目前尚无解决方案。较慢的比特密度和成本下降可能会持续到2025年左右,那时可能需要一种新的存储器类型。


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