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物理气相沉积(PVD)的基本过程

2021.4.14
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coco5517

认真做好每一件喜欢的事,把每一件要做的事都变成喜欢并认真去做的事

  物理气相沉积的基本过程

  (1)气相物质的产生

  一类方法是使镀料加热蒸发,称为蒸发镀膜;另一类是用具有一定能量的离子轰击靶材(镀料),从靶材上击出镀料原子,称为溅射镀膜。

  (2)气相物质的输送

  气相物质的输送要求在真空中进行,这主要是为了避免气体碰撞妨碍气相镀料到达基片。

   (3)气相物质的沉积

  气相物质在基片上沉积是一个凝聚过程。根据凝聚条件的不同,可以形成非晶态膜、多晶膜或单晶膜

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