分析测试百科网

搜索

喜欢作者

微信支付微信支付
×

聚焦离子束在LiNbO_3及KTP等晶体上的亚微米刻蚀研究

2019.12.17
头像

guoliming

致力于为分析测试行业奉献终身

 

   正聚焦离子束(focused ion beam,简写FIB)是一个微纳加工和观察分析设备。在强电场下金属离子溢出液态离子源,形成束流,经光圈限束、加速、聚焦、象散校正、偏转,打到样品指定点上。利用其溅射效应,FIB可用于样品表面亚微米尺寸的刻蚀,控制其扫描路径可以在无掩模下刻蚀任意正聚焦离子束(focused ion beam,简写FIB)是一个微纳加工和观察分析设备。在强电场下金属离子溢出液态离子源,形成束流,经光圈限束、加速、聚焦、象散校正、偏转,打到样品指定点上。利用其溅射效应,FIB可用于样品表面亚微米尺寸的刻蚀,控制其扫描路径可以在无掩模下刻蚀任意。  


聚焦离子束
互联网
仪器推荐
文章推荐