| 仪器名称： | 佳能光刻机 |
| 仪器编号： | 80424600 |
| 产地： | 日本 |
| 生产厂家： | 日本 |
| 型号： | PLA-500 |
| 出厂日期： | 198004 |
| 购置日期： | 198004 |
| 所属单位： | 集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺 |
| 放置地点： | 微电子所新所一楼微纳平台光刻间 |
| 固定电话： | |
| 固定手机： | |
| 固定email： | |
| 联系人： | 窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） 付玉霞（010-62781090,15210647296,fuyuxia@mail.tsinghua.edu.cn） |
| 分类标签： | 光刻 微纳加工 半导体 集成电路 MEMS |
| 技术指标： | 最小分辨率约2μm；套刻精度±2μm；掩膜版尺寸5英寸X5英寸；对准间隙0~98μm；曝光间隙0~48μm；操作杆可扫视范围X方向10mm、Y方向10mm。 |
| 知名用户： | 吴华强（微电子所）、伍晓明（微电子所）、钱鹤（微电子所）、陈炜（微电子所）、邓宁（微电子所）、刘建设（微电子所）、刘泽文（微电子所）、张志刚（微电子所）、杨秩（微电子所）、王敬（微电子所）、荆高山（精仪系）、许军（微电子所）、谢丹（微电子所）、严清峰（化学系）、崔天宏（精仪系）、严小兵（中科院微所）、王喆垚（微电子所）、王晓红（微电子所）。 |
| 技术团队： | 吴华强、伍晓明、刘朋、付玉霞、鲁勇、刘爱华、窦唯志、张忠会、李志东 |
| 功能特色： | 该设备为一台半自动接触式曝光机，需与其余辅助设备配套完成整个光刻工艺。光刻工艺的主要步骤分为：烘箱将硅片水分去除"熏表面接触剂"匀胶机涂覆光刻胶"热板对胶进行前烘"曝光机曝光"热板进行中烘"显影"显微镜进行图形检查"使用烘箱进行后烘。该设备对准曝光方式可在接近式、硬接触和软接触模式之间进行转换。可用的光波长度由g线、h线和i线合成；积分光量计的设定量能以0.1为单位在0~59.9之间变动；带硅片自动/手动供给选择开关。本设备具备自动传片功能，供有平边的圆片选择；手动传片功能供无平边或透明的圆片选择。另外，具备自动找平功能，从而不依赖于人的加工水平。本设备具有操作简单、工艺稳定、加工效率高等优点。 目前，该设备可做的光刻工艺有：曝AZ601正性光刻胶厚1.5微米~2.5微米、NR9-3000P负性胶厚2.0~2.7微米用于刻蚀工艺；NR9-3000PY负性胶厚2.0~2.7微米用于剥离工艺；NR9-6000PY负性胶厚5.0~5.7微米用于剥离工艺；AZ4620正性光刻胶厚4.5~8微米用于刻蚀工艺；双层胶用于剥离工艺等。 |
样品要求：
单片式；载片尺寸为4英寸圆片。
预约说明：
实验室的设备采用网上预约的方式、以先约先用为基本原则
取消预约需提前2个小时通过网上取消预约
| 项目名称 | 计价单位 | 费用类别 | 价格 | 备注 |
|---|---|---|---|---|
| 上机预约 | 元/小时 | 自主上机机时费 | 400.0 | |
| 送样 | 元/小时 | 测试费 | 400.0 |
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