仪器名称: | 离子束镀膜刻蚀系统 |
仪器编号: | 14012804 |
产地: | 美国 |
生产厂家: | Gatan |
型号: | 682 |
出厂日期: | 201308 |
购置日期: | 201407 |
样品要求:
尺寸要求:最大尺寸直径32mm、高度10mm
样品其他要求:真空下不能有挥发物。
所属单位: | 材料学院>材料中心 >电镜中心 |
放置地点: | 主楼11-127 |
固定电话: | |
固定手机: | |
固定email: | |
联系人: | 王永力(010-62773015,13911378129,447293071@qq.com) 闫允杰(010-62773996,13651374317,yanyunjie514@263.net.cn) |
分类标签: | 碳膜 镀膜仪 离子束镀膜 高分辨 高分辨观察 高分辨镀膜 Gatan 682 超高分辨镀膜 高分辨分析 无热损伤 离子束刻蚀系统 离子束刻蚀 EBSD样品抛光 去应变层 去非晶层 |
技术指标: | 镀膜厚度:0.1nm/秒,最大厚度100nm 镀膜材料:C |
知名用户: | 清华大学、物理所、北京科技大学、农大、北邮、北大、地大、矿大等 |
技术团队: | 北京电子显微镜中心建设了一支由国际知名的电子显微学和材料科学专家为学术带头人、由通晓电子显微分析理论和技术及材料科学等相关理论的优秀研究和技术人员组成且结构合理的人才队伍,由固定和客座研究人员组成,承担科学研究、共享服务人才培养、设备管理和维护等具体工作,固定科研和技术人员共10人,其中院士1人,教授2人,副教授2人,高级工程师4人(博士一人,硕士两人,学士一人),工程师3人(博士)。设备运行采取责任教授和责任工程师负责制。 |
功能特色: | 可以进行精密镀膜,现有靶材C; 镀膜时间短:一般1小时以内完成镀膜 镀膜没有温升,对样品损伤小(由于是离子束轰击到靶材上,间接把靶材的材料镀到样品上,因此该种方式镀膜对样品损伤小) |