在这片应用中我们以电镀Ni纳米晶样品为例，介绍最新的Symmetry EBSD探测器在TKD分析方面带来的革命性的突破。
Ni样品的纳米晶组织是通过电镀直接形成的；而非像其他样品通过剧烈变形，把现存的大的晶粒打碎，形成细小的纳米晶。对于这个样品来讲，最具挑战性的难点在于其非比寻常细小的晶粒！下图所示为样品上采集的约0.5umx0.5um的区域，步长2nm，速度达到125点/秒，标定率达到约80%。其平均晶粒尺寸为20.8±0.5nm，一共采集到约500个晶粒，其中大量晶粒含有Ʃ3的孪晶界。利用TKD技术，2nm的步长能够有效的实现对这种纳米晶粒的数据采集和分析。利用Symmetry探测器，我们可以快速地采集高清晰度的花样，达到311x256像素，从而对这类纳米晶材料实现快速而准确的分析和统计。
电镀纳米Ni晶粒的花样质量图和晶粒大小分布图，蓝色的晶粒直径小于20nm，统计晶粒大小时已排除了红色的孪晶界。
所有以上的结果，充分地展示了新一代基于CMOS技术的Symmetry EBSD探测器在TKD实验中表现出的强大能力。在高速条件下，采集高清晰度衍射花样的能力，使得Symmetry成为TKD实验理想的探测器。同时，Symmetry EBSD探测器允许通过调整探测器的倾斜角度，来调整探测器的高度，使得样品和探测器都能在高分辨的TKD实验最佳的几何位置上工作。
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