自1988年首次在上海举办以来，SEMICON CHINA已成为中国首要的半导体行业盛事之一，囊括当今世界上半导体制造领域主要的设备及材料厂商。
颇尔微电子将以“共享全球科技，助力智慧中国”为主题，携半导体及显示行业的全球高科技过滤技术和产品精彩亮相！
Litho
<1nm的HDPE高精度过滤器 —— XPR3L
2nm非对称性Nylon过滤器, 应用于最先进的光刻工艺
5nm PTFE滤膜，适用于SOD及NTD强极性PR点位 - NTD2
Wet Chemical
IonKleenTM IPA纯化器，应用于关键IPA洁净工艺
XpressKleenTM XP 2nm过滤器，应用于超纯化学品过滤
Ultipleat® SP DR 2nm过滤器，应用于多种水系高纯化学品过滤
CMP
用于先进CMP工艺，纳米纤维深层及膜式过滤器
Gas
用于高纯度工艺气体，污染控制方案
OLED
FLHF&RRC系列，高粘度聚酰亚胺过滤解决方案
电子材料是集成电路、新型显示、5G通信的重要基础，近些年来，中国不断实现高端电子材料技术的新突破。
颇尔作为全球高科技过滤、分离和纯化专家，拥有完整的解决方案服务于硅片、光刻胶、研磨液、湿电子化学品等各类电子材料的生产与制造，快来颇尔展台，一探究竟吧！
颇尔公司始终秉持“立足中国，服务中国”的理念，微电子团队和中国研发中心积极响应本土客户需求，在此次展会上带来了全新设计的光刻工艺过滤器支架，安全、可靠、易操作，可实现十秒钟过滤器快速换装！
全新设计的光刻工艺过滤器支架
Litho Manifold
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展会地点
上海新国际博览中心
浦东新区龙阳路2345号
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