就在明天！牛津仪器邀请您参加“薄膜沉积与外延技术与应用”主题网络研讨会

采用一定方法，使处于某种状态的一种或几种物质的基团以物理和化学方法附着于衬底材料表面形成一种新的物质，这层新物质就是薄膜。薄膜的制备主要技术包括薄膜沉积和外延技术。薄膜沉积和外延技术是半导体制造工艺中的非常重要的技术。

基于此，媒体将于2021年9月23日举办“薄膜沉积与外延技术与应用”主题网络研讨会，邀请业内专家以及技术人员就薄膜沉积与外延技术与应用等话题进行探讨。

牛津仪器很荣幸能受邀参加，欢迎感兴趣的学者与专家报名该研讨会，并与我们的应用科学家在线交流和探讨技术与应用！

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会议议程和报告简介

日程安排：

标题：如何用原子力显微镜评价高质量薄膜

摘要：近几年，由于2D材料的火热和半导体行业的飞速发展，高质量薄膜沉积和外延生长越来越受到关注。CVD技术是制备高质量薄膜的技术之一。如何评价高质量薄膜对优化工艺非常关键。原子力显微镜（AFM）是评价薄膜质量不可或缺的技术手段。在本次讲座中，主要用AFM评价薄膜质量，材料涉及衬底、2D材料、半导体材料，量子点等，评价涉及薄膜生长机制、表面不均匀性、缺陷类型、薄膜粗糙度、力学性质、电学性质等，从而实现对薄膜质量的全面评估。

报名方式：