JB/T 7505-1994
离子镀术语

Terminology of ion plating

JBT7505-1994, JB7505-1994


JB/T 7505-1994 中，可能用到以下仪器设备

 

日立 IM4000PLUS离子研磨仪器

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天美仪拓实验室设备（上海）有限公司

 

STEM探测器

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天美仪拓实验室设备（上海）有限公司

 

Buchi步琦Rotavapor R-250工业大型旋转蒸发仪

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瑞士步琦公司BUCHI Labortechnik AG

 

日本电子TP 系列 高频感应等离子体发生器

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日本电子株式会社(JEOL)

 

RE100-Pro数控旋转蒸发仪

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数显旋转蒸发仪

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SBC-12小型离子溅射仪

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GVC-1000小型离子溅射仪

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磁控溅射卷绕镀膜机

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沈阳科晶/KJ GROUP

 

德国徕卡 高压冷冻仪 EM ICE

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徕卡显微系统(上海)贸易有限公司

 

高真空镀膜机 Leica EM ACE600

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日本电子IB-19530CP截面样品制备装置

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日本电子株式会社(JEOL)

 

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日本电子株式会社(JEOL)

 

日本电子EM-09100IS 离子切片仪

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日本电子株式会社(JEOL)

 

日本电子IB-09060CIS低温冷冻离子切片仪

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日本电子株式会社(JEOL)

 

莱伯泰科EV241/EV242手动升降旋转蒸发仪

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北京莱伯泰科仪器股份有限公司

 

莱伯泰科EV351/EV352旋转蒸发仪

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北京莱伯泰科仪器股份有限公司

 

莱伯泰科EV341/EV342旋转蒸发仪

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莱伯泰科EV311/312旋转蒸发仪

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北京莱伯泰科仪器股份有限公司

 

莱伯泰科EV321/322旋转蒸发仪

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莱伯泰科EV331/332旋转蒸发仪

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牛津PlasmaPro 100等离子体增强化学气相沉积系统（PECVD）

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牛津仪器（上海）有限公司

 

莱伯泰科EV351旋转蒸发仪

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北京莱伯泰科仪器股份有限公司

 

莱伯泰科EV341旋转蒸发仪

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牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统（PECVD） PlasmaPro 100

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智能旋转蒸发仪 EV4000VAC

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北京莱伯泰科仪器股份有限公司

 

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Buchi步琦Rotavapor R-220 EX工业大型旋转蒸发仪

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瑞士步琦公司BUCHI Labortechnik AG

 

BUCHI 多样品平行蒸发定量浓缩仪SyncorePlus

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瑞士BUCHI Rotavapor R-300 旋转蒸发仪

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东京理化N-1300D-WB旋转蒸发仪

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日本东京理化器械株式会社北京代表处

 

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界面 I-300/I-300 Pro用于旋转蒸发仪或真空泵（控制器）

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瑞士步琦公司BUCHI Labortechnik AG

 

N-1300V旋转蒸发仪

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日本东京理化器械株式会社北京代表处

 

Buchi步琦Rotavapor R-100旋转蒸发仪

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瑞士步琦公司BUCHI Labortechnik AG

 

Buchi步琦Interface I-100 界面/经济型真空调节解决方案

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瑞士步琦公司BUCHI Labortechnik AG

 

Buchi步琦Rotavapor R-220 Pro 工业大型旋转蒸发仪专业版

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日本电子JBX-9500FS电子束光刻系统

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日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统

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日本电子JBX-3050MV 电子束光刻系统

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日本电子株式会社(JEOL)

 

日本电子JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统

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日本电子BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪/电源

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日本电子株式会社(JEOL)

 

日本电子BS/JST系列电子枪/电子束蒸镀的高压电源

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JEBG系列大功率电子枪

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日本电子株式会社(JEOL)

 

BS-80011BPG产生高密度等离子体的内置型等离子体枪

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日本电子株式会社(JEOL)

 

日本电子BS-80020CPPS等离子体源

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日本电子株式会社(JEOL)

 

日本电子RF-120系列高频电源

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日本电子株式会社(JEOL)

 

日本电子RF-340 系列匹配网络自动整合装置

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日本电子株式会社(JEOL)

 

日本电子BS-04 系列 旋转式传感器

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日本电子株式会社(JEOL)

 

JB/T 7505-1994
标准号
JB/T 7505-1994
别名
JBT7505-1994
JB7505-1994
发布
1994年
发布单位
行业标准-机械
当前最新
JB/T 7505-1994
 
 
本标准规定了真空离子镀专业常用的术语及定义。 本标准适用于真空离子镀及与真空离子镀有关的过程。

JB/T 7505-1994相似标准

GB/T 32484-2022 表壳体及其附件 气相沉积镀层 JB/T 8554-1997 气相沉积薄膜与基体附着力的划痕试验法 GB/T 28786-2012 真空技术.真空镀膜层结合强度测量方法.胶带粘贴法 HB/Z 265-1994 钛合金紧固件离子镀铝工艺 DIN 54400:2015 离子交换.术语

JB/T 7505-1994 中可能用到的仪器设备

电镜制样设备 离子溅射仪 镀膜机 电子束刻蚀 等离子体表面处理仪 旋转蒸发仪 脉冲电子沉积(PED) 原子层沉积(ALD)

谁引用了JB/T 7505-1994 更多引用

JB/T 8419-2008 热处理工艺材料分类及代号


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