JB/T 5575-1991
真空蒸发光学镀膜设备 技术条件

Technical conditions of vacuum evaporation optical coating equipment

JBT5575-1991, JB5575-1991


JB/T 5575-1991 发布历史

JB/T 5575-1991由行业标准-机械 CN-JB 发布于 1991-07-16,并于 1992-07-01 实施。

JB/T 5575-1991 在中国标准分类中归属于: N68 真空检测仪表与装置。

JB/T 5575-1991 真空蒸发光学镀膜设备 技术条件的最新版本是哪一版?

最新版本是 JB/T 5575-1991

JB/T 5575-1991的历代版本如下:

 

JB/T 5575-1991

标准号
JB/T 5575-1991
别名
JBT5575-1991
JB5575-1991
发布
1991年
发布单位
行业标准-机械
当前最新
JB/T 5575-1991
 
 

JB/T 5575-1991相似标准


推荐

光学玻璃的种类及其镀膜方法介绍

2.真空蒸发镀膜玻璃的品种和质量与磁控溅射镀膜玻璃相比均存在一定差距,已逐步被真空溅射法取代。   3.化学气相沉积法是在浮法玻璃生产线上通入反应气体在灼热的玻璃表面分解,均匀地沉积在玻璃表面形成镀膜玻璃。该方法的特点是设备投入少、易调控,产品成本低、化学稳定性好,可进行热加工,是更有发展前途的生产方法之一。   ...

为什么溅射原子的能量大于蒸发原子的许多倍

溅射镀膜真空蒸发镀膜相比,有许多优点。如任何物质均可以溅射,尤其是高熔点,低蒸气压的元素和化合物;溅射膜与基板之间的附着性好;薄膜密度高;膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂,需要高压装置。此外,将蒸发法与溅射法相结合,即为离子镀。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力,有较高的沉积速率,膜的密度高。...

薄膜应力研究的重要性

2 薄膜应力的成因  薄膜应力主要包括热应力与生长应力:热应力是当薄膜从沉积温度冷却到室温的过程中,由于薄膜与基底的热膨胀系数不同引起的;生长应力存在于所有镀膜方法(如真空蒸发、阴极溅射或气相沉积)制作的薄膜中,其zui大值可达109N/m2。它的大小与由薄膜和基底材料以及制备工艺条件有关。...

真空镀膜的技术优势

(4)每种薄膜都可以通过微调阀精确地控制镀膜室中残余气体的成分和质量分数,从而防止蒸镀材料的氧化,把氧的质量分数降低到最小的程度,还可以充入惰性气体等,这对于湿式镀膜而言是无法实现的。(5)由于镀膜设备的不断改进,镀膜过程可以实现连续化,从而大大地提高产品的产量,而且在生产过程中对环境无污染。...


JB/T 5575-1991 中可能用到的仪器设备





Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号