SJ 20714-1998
砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法
Test method for sub-surface damege of gallium arsenide polished wafer by X-ray double crystal diffraction
SJ 20714-1998 发布历史
本标准规定了砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法。 本标准适用于经过化学、机械单面和双面抛光的砷化镓晶片亚损伤层的定性测量。
SJ 20714-1998由行业标准-电子 CN-SJ 发布于 1998-03-18，并于 1998-05-01 实施。
SJ 20714-1998 在中国标准分类中归属于: H83 化合物半导体材料，在国际标准分类中归属于: 29.045 半导体材料。
SJ 20714-1998的历代版本如下：
- 1998/03/18 SJ 20714-1998 砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法
- 标准号
- SJ 20714-1998
- 发布
- 1998年
- 发布单位
- 行业标准-电子
- 适用范围
- 本标准规定了砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法。 本标准适用于经过化学、机械单面和双面抛光的砷化镓晶片亚损伤层的定性测量。