这些溅射的源材料离子是高能的并且撞击在衬底表面上,产生致密的膜。虽然IBS在激光光学涂层领域得到了广泛应用,但由于缺乏对其他涂层技术能力的了解,它被过度使用。在原子层沉积中,光学涂层由气体前体逐层构建。与蒸发沉积不同,源材料不需要从固体中蒸发,而是可以直接从气体中产生。尽管如此,涂覆通常仍在升高的温度下进行。原子层沉积(ALD)的关键区别在于前体是以非重叠脉冲输送的,并且每个脉冲是自限制的。...
介绍 涂层厚度测量是工业涂层应用中最常见的质量评估之一。SSPC-PA 2,确定干涂层厚度要求的一致性的程序在涂料规格中经常引用。由于SSPC-PA 2在过去四十年中不断发展,因此在标准的强制性部分和非强制性附录中都引用了许多程序和测量频率。虽然测量频率从未打算成为统计过程,但了解测量过程的统计含义是有帮助的。了解涂层厚度变化是否合理是有帮助的。...
光学器件背面的补偿涂层已被证明可减少高达90%的表面变形,但在某些情况下,光学器件的每个表面上需要不同的涂层,在这种情况下,涂层会施加不同水平的应力,并且也不会相互补偿。在高度敏感的应用中,施加补偿涂层后的剩余变形仍足以显著降低系统性能。当高度控制光学器件的表面形状时(例如当指定λ/20表面时),涂层引起的表面变形更加明显。...
05超快光学表面质量的规定在分析超快光学器件时,制造商必须自行决定指定表面质量,因为目前没有这样做的标准。一些超快光学器件制造商仅指定预涂覆表面质量,而其他制造商可能仅报价20-10或更高的涂覆后表面质量。为超快应用制造的光学器件通常具有厚的专用涂层,需要长时间的溅射过程。由于该过程的长度,缺陷可能会溅射到涂层内,这会导致“灰尘”的外观或其他不规则的表面质量。...
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