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（f） Ni3S2@GCNs/NFNi3S2@NGCLs/NF，镍泡沫和RuO2/NF的双层电容（Cdl）。（g） 电流密度从10毫安厘米到60毫安厘米Ni3S2@NGCLs/NF的多流工艺，无需iR校正。（h） Ni3S2@NGCLs/NF在恒流密度为10毫安平方厘米时的时间电位曲线。（i） 第1、2000和10000次循环后的极化曲线。...
制备不同阶段材料的表征 (A1-A3) 泡沫镍上NiCo-LDH NSA的SEM图，约30nm厚纳米片层垂直均匀堆叠；(B1-B3) 硒化后的NiCo-LDH NSA的SEM，扔均匀分布；(C1-C3)0.1M HCl处理后的Ni0.89Co0.11Se2 MNSN，片层厚度减小为12nm。图3....
XRD表征证明所制备产品由NiZn金属间化合物和Ni两种物相组成：图1. NiZn/NF和TMP NiZn-Ni/NF样品的XRD表征。SEM(a&b)表征发现锌的腐蚀在表面形成了均匀的孔径尺寸约几百纳米的大孔，TEM (c)研究发现在孔壁中还分布有一层丰富的孔径小至7 nm的纳米孔。BJH孔径分析(g)也证明这层纳米孔主要分布在7 nm左右。这些结果证明了自支撑多级多孔结构的形成。...
基于此, 本文运用水热和电沉积相结合的方法将CeO2修饰到Ni3S2纳米片上, 制备得到生长于泡沫镍上的Ni3S2-CeO2纳米片阵列(Ni3S2-CeO2/NF), 并运用X射线粉末衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、X射线光电子能谱(XPS)等手段进行了表征, 以三电极系统测试了其电催化析氧性能及稳定性, 并通过密度泛函理论计算进行了验证. ...
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