T/CNIA 0061-2020由中国团体标准 CN-TUANTI 发布于 2020-05-27,并于 2021-12-08 实施。
T/CNIA 0061-2020在国际标准分类中归属于: 77.040.01 金属材料试验综合。
T/CNIA 0061-2020 硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法的最新版本是哪一版?
最新版本是 T/CNIA 0061-2020 。
本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的方法。 本标准适用于硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的测定。各元素测定下限为0.01 ng/g。
正因为这些优点,使ICP-MS分析技术广泛应 用于半导体工业用高纯材料的痕量杂质分析中.主要进行的高纯材料分析1. IC硅片表面杂质分析2. 光伏多晶硅、单晶硅杂质分析3. 三氯氢硅、四氯化硅: ICP.MS法测定高纯四氯化硅中们、V、cr、‘ Co、Ni、Cu、Pb、Zn、Mn九种金属元素.4....
、铁、硅、硼量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法推制金砷合金 砷量测定 电感耦合等离子体发射光谱法推制铑化合物化学分析方法 第2部分:杂质元素的测定 电感耦合等离子体发射光谱法推制钯化合物分析方法 氯量的测定 离子色谱法推制核级银-铟-镉合金化学分析方法推修稀土金属及其氧化物中稀土杂质化学分析方法 第1部分:镧中铈、镨、钕、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥和钇量的测定推修稀土金属及其氧化物中稀土杂质化学分析方法...
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