T/XAI 16-2023由中国团体标准 CN-TUANTI 发布于 2023-08-01,并于 2023-08-01 实施。
T/XAI 16-2023在国际标准分类中归属于: 01.100.25 电气和电子工程制图。
T/XAI 16-2023 覆晶薄膜基板掩膜版图纸设计规范的最新版本是哪一版?
最新版本是 T/XAI 16-2023 。
1 范围、2 规范性引用文件、3 术语和定义、4 设计要求、5 证实方法。
第一步:制作光刻掩膜版(Mask Reticle)芯片设计师将CPU的功能、结构设计图绘制完毕之后,就可将这张包含了CPU功能模块、电路系统等物理结构的“地图”绘制在“印刷母板”上,供批量生产了。这一步骤就是制作光刻掩膜版。光刻掩膜版:(又称光罩,简称掩膜版),是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。...
光掩模版 掩膜版是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版。通过光刻制版工艺,将微米级和纳米级的精细图案刻制于掩膜基板上制作成光掩膜版。 光掩膜版的功能类似于传统照相机的底片,用光刻机在原材料上刻蚀出相应的图形,把不需要的金属层和胶层洗去,即得到成品。 ...
Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号