T/CEPEA 0102-2023
化合物半导体器件刻蚀工艺静电卡盘

Electrostatic chuck for etching process of compound semiconductor devices


标准号
T/CEPEA 0102-2023
发布
2024年
发布单位
中国团体标准
当前最新
T/CEPEA 0102-2023
 
 
适用范围
       静电卡盘是在具较高相对介电常数的电介质材料内部设置具有特定功能结构的电极组图案，通过混凝、烧结、键合等一体化工艺制造而成。        本文件界定了化合物半导体器件刻蚀工艺静电卡盘的术语和定义，规定了其结构和分类、工作条件、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。

T/CEPEA 0102-2023相似标准

T/ICMTIA BS0030-2022 集成电路材料产品分类 GB/T 50780-2013 电子工程建设术语标准 GB/T 40577-2021 集成电路制造设备术语 GB/T 26111-2010 微机电系统（MEMS）技术 术语 GB/T 2900.104-2021 电工术语 微机电装置

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