ANSI/ASSP Z9.6-2018
用于研磨、抛光和抛光的排气系统

离子研磨仪在半导体失效分析中的应用案例分享

放大倍数：50,000xPCB/PCBA失效分析案例分享 3离子研磨仪SC-2100适用于离子束剖面切削、表面抛光可预设不同切削角度制备横截面样品可用于样品抛光或最终阶段的细抛和清洁超高能量离子枪用于快速抛光低能量离子枪适用后处理的表面无损细抛和清洁操作简单，嵌入式计算机系统，全自动设定操作冷却系统标准化，应用于多种类样本高分辨率彩色相机实现实时监控抛光过程TECNOORG LINDA案例分享意犹未尽...