ISO 23170:2022
表面化学分析.深度剖面.用中能离子散射法对硅衬底上纳米级重金属氧化物薄膜进行无损深度剖面

Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering


标准号
ISO 23170:2022
发布
2022年
发布单位
国际标准化组织
当前最新
ISO 23170:2022
 
 
引用标准
ISO 18115
适用范围
本文件规定了一种使用中能离子散射 (MEIS) 对硅基底上的非晶重金属氧化物超薄膜进行定量深度分析的方法。

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