找不到引用JC/T 2201-2022 镀膜玻璃用靶材 的标准
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01溅射镀膜基本介绍薄膜溅射的物理基础是气体放电，利用气体放电过程中部分气体被分解为可导电的离子与电子（即形成等离子体），用离子轰击靶材表面，靶材的原子被轰击出来的现象称为溅射，溅射产生的原子沉积在基体表面成膜即为溅射镀膜。021溅射镀膜技术的发展历程1852年，溅射现象被“星探”Grove发现。1877年，溅射镀膜技术的1.0版，二级溅射技术开始发展起来。...
使用光学干涉法可测得厚度：H = 7.5*I*T其中 T 表示溅射时间（分钟），I 表示溅射电流（毫安），H = 镀层厚度（埃）。不同靶材的溅射速率不同。相对于金/钯靶，铂靶的溅射速率大约只有它的一半。05改善喷金效果的几个技巧腔室一定要保持干净！如果可以的话，不要在喷金仪的腔室中进行蒸碳操作，最好用另一台设备进行蒸碳。（防止蒸碳污染溅射仪腔室）。可以用热肥皂水定期清洁腔室，并充分干燥。...
把载有颗粒的玻璃片翻转过来，对准已备好的试样台，用小镊子或玻璃棒轻轻敲打，使细颗粒均匀落在试样台。超声分散法：将少量的颗粒置于烧杯中，加入适量的乙醇，超声震荡5分钟后，用滴管加到铜片上，自然干燥。 镀膜法真空镀膜真空蒸发镀膜法(简称真空蒸镀)是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分 子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到固体(称为衬 底或基片)表面，凝结形成固态薄膜的方法。...
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