05气相沉淀 气相沉积是指利用气相中发生的物理化学反应,在材料表面形成具有特种性能的金属或化合物涂层的过程。按照成膜机理,可分为化学气相沉积、物理气相沉积和等离子体气相沉积。 航天装备中的一些微电子芯片、微波元器件常常利用化学气相沉积得到所需沉积薄膜,所涉及的材料大多数为硅、碳纤维、碳纳米纤维、SiO2、氮化硅等材料。...
11、 热喷涂:火焰喷涂,电弧喷涂,等离子喷涂,爆炸喷涂,粉末等离子堆焊等目的是制备耐蚀,耐磨,减摩,隔热,导电,绝缘,可磨耗封严等多种功能涂层 12、 物理气相沉积(PVD):蒸发镀,溅射镀,离子镀等目的是制备装饰性,耐磨,耐蚀及光,电,磁等功能薄膜 13、 化学气相沉积(CVD):常压化学气相沉积,低压化学气相沉积,激光化学气相沉积,金属有机化合物化学气相沉积,等离子体化学气相沉积等目的是制备耐磨...
特点: 1)在中温或高温下,通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。 2)可以在常压或者真空条件下(负压“进行沉积、通常真空沉积膜层质量较好)。 3)采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进化学反应,使沉积可在较低的温度下进行。 4)涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化,从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。 5)可以控制涂层的密度和涂层纯度。 6)绕镀件好。...
、顶部气相部位涂层总厚度不小于300 微米。 ...
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