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化学气相沉积CVD的来源及发展化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition）中的Vapor Deposition意为气相沉积，其意是指利用气相中发生的物理、化学过程，在固体表面形成沉积物的技术。...
点击上方「材料科学与工程」快速关注材料类综合、全面、专业的微信平台 PACVD是等离子体辅助化学气相沉积的缩写，下面的视频为大家展示的是欧瑞康巴尔查斯涂层公司用高频PACVD工艺生产无金属碳涂层的过程，这种方式工艺类似溅射，但是溅射出金属附膜后，加上了高频交流电压。过程大致是这样的：首先加入含涂层元素的气体后，然后在处理室中发生气体放电，所生成的碳和氢原子最后在工具或元件上形成紧密的涂层。...
本研究组隶属于浙江大学杭州国际科创中心未来科学研究院二维材料与应用研究室，主要研究方向是二维材料制备、物理化学性质及应用， 并且和研究室内其他方向上展开合作。本研究组和国内外众多知名研究人员都建立了紧密合作关系。研究组拥有等离子增强化学气相沉积、多台化学气相沉积炉、薄膜沉积系统等全套先进材料生长设备，依托科创中心和浙江大学的强大平台。...
化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。...
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