BS ISO 8181:2023
原子层沉积 词汇
Atomic layer deposition. Vocabulary
BS ISO 8181:2023 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- BS ISO 8181:2023
- 发布
- 2023年
- 发布单位
- 英国标准学会
- 当前最新
- BS ISO 8181:2023
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原子层沉积(ALD)是一种真正的"纳米"技术，以精确控制的方式沉积几个纳米的超薄薄膜。 原子层沉积的两个限定性特征--自约束的原子逐层生长和高度保形镀膜--给半导体工程，微机电系统和其他纳米技术应用提供了许多好处。...
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PICOSUN 原子层沉积系统共享
知名用户：吴华强 微电子所；王谦 微电子所；技术团队：曹秉军功能特色：可在4”硅片上沉积氧化物薄膜，目前可以通过水、臭氧以及Plasma等方式沉积氧化铝、氧化钛、氧化铪、氧化锆、铪锆氧薄膜。项目名称计价单位费用类别价格备注原子层沉积系统 ALD -机时费元/小时自主上机机时费800.0原子层沉积系统 ALD -送样测试费元/小时测试费800.0...